EDX(Energy Dispersive Spectrometry)即能量色散X射线荧光光谱分析仪采用的X射线荧光光谱分析原理。
X射线荧光分析原理:当样品中元素的原子收到高能X射线照射时,即发射出具有一定波长的特征X射谱线。特征谱线的波长与元素的原子序数(Z)有关,而与激发X射线的能量无关。所以测定谱线的波长,就可知道试样中含有什么元素(即定性分析);测量谱线的强度,就可知该元素的具体含量(即定量分析)。
仪器工作原理:仪器高压电源给光管提供管压和管流,光管激发出连续的X射线荧光光谱线(即原级X射线),原级X射线照射到样品上,样品产生具有样品特征的X荧光谱线,经过探测器后变成电压信号,信号经过放大和数据采集后传送给计算机,经软件处理后*终获样品的测量结果。
Fp镀层厚度测试原理:如果考虑依次荧光,并将无限厚试样的荧光强度记为I∞,厚度为T的试样的荧光强度记为IT,则
其中IT为厚度为T的试用的荧光强度,I∞为试样镀层相同材料无限厚试用的荧光强度。将IT/ I∞为纵坐标,而将K=exp(-µ*sρT)作为横坐标,绘坐单镀层X荧光厚度曲线图下图示:
从上表也可以看出,X荧光测厚当镀层厚度达到一定厚度后,X光所测量的强度不再发生变化,这说明用X荧光测厚是一定限制的,过厚的样品则视为无限厚样品。
产品名称:X荧光镀层测厚仪
产品型号:EDX2000A
(1)外形尺寸:485(W)×588(D)×505(H)mm
样品腔尺寸:430(W)×400(D)×140(H)mm
(2)重量 60kg
(3)X射线源:
X射线管: W靶材
X射线管电压: 5——50KV,可调
X射线管电流: 50uA——1mA,可调
X射线管制冷: 密闭型风冷
(4)准直系统: 标配¢0.2mm(可根据要求选配,优化的微区分析性能和XRF光路结构,实现高技术率,微小样品,快速定性定量分析)
(5)滤光片: Al滤光片(可根据要求选配,高峰背比)
(6)X射线检测: FSDD探测器(全市场*市场配置,高分辨率)
(7)样品观测配置
样品照明: LED灯,上方垂直环绕照射
观察: 彩色CCD变焦工业摄像头(配合深槽算法,实现凹槽,阶梯等异性样品测试)
倍率: 15-25倍
视野: 6 X 4.8mm
变焦: 0-40mm
(8)Z轴调节:图像识别功能
高度激光对焦
(9)电动XY高精度移动平台(实现鼠标点哪测)
样品台尺寸: 320(W)× 265(D)mm
移动范围: 100mm(X) × 100mm(Y)
分辨率: 5um
重复定位精度: <10um(*定位)
步进电机步距角: 1.8°
载重量: 3 kg(无倾斜)
(10)Z轴升降平台:
*升降幅度范围:0—140mm(高端上照式仪器中大行程)
(11)安全保护
操作人员在未关高压的情况下打开屏蔽罩仪器会自动断高压,软件提醒,指示灯提醒等多重保护。
(12)数据采集
4096道细分数据采集 (矩阵信号直观,简洁)
(13)X射线管工作情况监测系统
软件画面显示当前的管压,管流,元素峰通道,记数率等。
(14) 电源:
电源输入:AC220±10%,5A,50/60HZ
l 金属表面阳极氧化等涂覆层厚度测试
l 电镀液成分测试合、金镀层成分及厚度分析
l 首饰定性半定量分析以及镀层厚度分析和检测机构、电镀行业
l 上照式:可满足各种形状样品的测试需求(晶圆,芯片等高端行业,对测试面洁净度要求高)
l 高分辨率探头:提高分析的准确性,FSDD高达129eV
l 安全性:新一代光管良好的屏蔽作用,X射线的辐射基本为0;仪器上盖的测试自锁和高压电源紧急锁功能,形成了对操作者的全方位防护
l 测试组件可升降,激光测距系统,满足不同高度样品的非接触式测试
l 高精度移动平台,支持智能定位测试,多点测试和网格测试模式
l 小准直器
l 可视化操作
l 智能的Fp测试软件,不需要标准样品,即可以实现多种制程的准确测试
l 相互独立的基体效应校正模型
l 一键测试按钮
l 鼠位测试点
l 大样品腔设计
l 测试口安全防护
l 智能防撞系统
l 元素分析范围从铝(Al)到铀(U)
l 一次可同时分析*多24个元素,5层镀层
l 仪器检出限:0.005um
l 镀层厚镀范围:0.005um—50um
l 多次测量重复性可达2%
l 长期工作稳定度为3%
1、翻盖 2、样品盖把手 3、高压指示灯
4、视窗 5、电源开关 6、电源插口 7、USB接口 8、网口
1、房间内不应有强电磁干扰、易燃物和大量积尘,以及阳光直射;
2、工作温度:15℃—30℃
3、工作湿度:≤RH70%
4、电源适应能力:220V±5V,50Hz±1Hz